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第94章 以往从未有过的时刻！
“最新的技术标准评估报告。”
晚宴结束之后，沪上微电子和华芯国际又开始了一轮新的忙碌，这一段时间，加班对于他们来说已经成为了常态。
每天都要按照最新的数据评估光刻机的性能水准。
原本，是没有这个流程的，但是，这台光刻机它不一样！
因为，每一次的再生产，他们都会发现，光刻机的实际应用效果比上一次更强，明明显显的强！
“这并不稀奇。”
梁振看着最新的数据，双眼也是直冒光：“加入了智能系统尤其是2041实验室的控制芯片以后，在某种程度上，光刻机就是会越用越强，这只是前期训练成果的后期增益罢了。”
在场的几个人都是内部可信人员，梁振也是说道：“这里边用到了部分的工业AI模型训练的理念，据程先生所言，这只是皮毛。”
几个人苦笑不是笑也不是，只是皮毛就这样厉害了？
“套刻精度2.2nm这个参数，是什么时间基于什么状态得出的数据？”有人立即意识到了重点，效果还能增益，那套刻精度还可以再提升吗？
“2.2这个数字是程先生上次从沪微离开时的数据，但自那之后，光刻机就直接来到你们这里了，也就是说，这台机器抵达你们产线时的套刻精度数据就是2.2。至于现在，可能略有提升。”
梁振笑道：“不过不用太过期待，不会有什么量级的提升，当时程先生说了2.2已经调校出了95%以上的水准了，除非改进训练模型，否则极限也就那样了。”
“那也不得了了啊！”华芯国际的相关负责人立即动了心思：“我们下一阶段的目标制程是不是要升级一下？哪怕不是真的升级，换个名字也好啊！要不直接上N+3的工艺，做6nm！”
几个人转了转头，刚刚不还说7nm呢吗？怎么这一会儿可就6nm了？
当然，他们都知道，什么7nm6nm的，本来就是一个虚数。
就像之前攻关的N+1工艺，说是7nmLpE低功率，实际标准也就是14nm+，大约10nm的水准，跟三星的8nm几乎差不多，三星本身标的就有点儿虚。跟台积电的7nm差距还颇大。
但台积电的7nm就是实实在在的7nm吗？也不是！
台积电的命名方式也并非是按照的实际物理数值，它的dUV7nm制程工艺，甚至不及英特尔的N10。
而且越往后的制程工艺虚标的越厉害，5nm4nm之类的更是虚的不行，这也算是晶圆厂的常规操作了。
“6nm对标台积电的N6，实际跟N7p几乎就是等同的，甚至比N7p还要差一些。实际上没有什么质的的差距，只不过，台积电的N6和N7+那都是用的极紫外光EUV光刻机。”
不过又想了一会儿，梁振还是点了点头：“应该没有问题。”
梁振现在对程旭那就是盲目的信任，什么dUV、EUV的，往上莽也就是了。
当然，这是因为他心里清楚，这本身也没有达到沪上微电子这台SSA800\/20光刻机的理论极限，以他对程旭的了解，程旭既然说出了7nm，那指定是瞄着最强的7nm去的。
另外，梁振如此有信心，还有一个非常关键的原因。
“你们都知道，最终制约我们能不能成功的因素，不是我们能不能制造，而是最终良品率和产能爬坡的速率。”梁振如此说道。
华芯国际的几个人纷纷点头。
如果非要制作一个5nm的芯片，就现在都不是完全不能，不计代价是能做出来的。关键是不能量产，完全就没有意义。
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